Полупроводниковая отрасль Китая уверенно движется к технологической независимости: уже до конца 2025 года планируется запуск тестового производства собственных EUV-литографов. Благодаря сотрудничеству с ведущими компаниями страны, как Huawei и SMIC, а также активным разработкам в научных институтах, Китай намерен резко снизить зависимость от западных производителей, став обладателем уникальных компетенций в сфере передовых техпроцессов.
Технологический рывок: тестовые установки и планы на массовое производство
Завершающаяся разработка литографических установок на базе экстремального ультрафиолета стала знаковым событием для научно-технологического сектора страны. Опытная эксплуатация новых машин уже проходит на производственных линиях Huawei в Дунгуане. По данным отраслевых экспертов, оборудование использует методику лазерно-плазменного испарения олова между электродами, что обеспечивает получение ультракоротких волн с высокой точностью и эффективностью.
Ожидается, что пилотное производство будет запущено в третьем квартале 2025 года, а массовый выпуск литографов стартует с 2026 года. Китайские специалисты ставят перед собой задачу добиться не только технологического паритета, но и превзойти западные аналоги по энергоэффективности, себестоимости и надежности оборудования. Такой подход открывает широкий спектр возможностей для масштабируемости и внедрения новых технологических процессов.
Инновационные решения: китайская альтернатива западным технологиям
Ключевой особенностью новой установки является использование метода лазерной плазменной обработки (LDP), отличающегося значительно более простой конструкцией по сравнению с традиционной схемой лазерно-плазменной обработки (LPP), применяемой в западных EUV-литографах. В данной технологии испарение олова и образование плазмы осуществляется между парой электродов под действием высокого напряжения, что упрощает архитектуру, минимизирует энергопотребление и снижает издержки на обслуживание.
Отказ от сложных управляющих систем, типичных для европейских производителей, также положительно сказывается на итоговой стоимости машин и снижает требования к инфраструктуре предприятия-производителя. Такие технологические шаги делают китайские литографы привлекательными для массового внедрения, обещая ускорить темпы роста национальной микроэлектроники и обеспечить устойчивые позиции на мировом рынке.
Освоение критических технологий: от теории к практике
Китайские центры исследований и высоких технологий в последние годы сфокусировали усилия на создании собственных источников экстремально-ультрафиолетового излучения длиной волны 13,5 нм — именно этот диапазон считается золотым стандартом для выпусков чипов по передовым техпроцессам. Разработки, проведённые в профильных институтах, позволяют получать стабильное и мощное EUV-излучение не только для ограниченных экспериментальных нужд, но и в промышленных масштабах.
Экспериментальные образцы машин уже продемонстрировали высокий уровень энергоэффективности и конкурентоспособности в сравнении с зарубежными аналогами. Это подтверждает реальный прорыв в области интеграции новых источников излучения с существующими производственными цепочками, а также уменьшает риски для реализации крупных проектов в условиях внешнего давления и санкций.
Ответ на вызовы: развитие без оглядки на западные ограничения
Санкционные барьеры, введённые западными странами на поставки литографических установок и ключевых компонентов, стали катализатором ускоренного технологического развития в Китае. На фоне сокращения объемов поставок оборудования ведущего мирового производителя ASML и попыток нарастить собственные компетенции в полупроводниковой отрасли, Китай делает ставку на создание независимой технологической инфраструктуры.
Компании-производители, такие как SMIC, которые ранее интенсивно использовали продукцию ASML, уже начали интеграцию отечественных литографов нового поколения. Это позволяет сохранять устойчивый темп инноваций, развивать собственные технопарки и создавать платформы для обучения высококвалифицированных специалистов в области цифровых технологий.
Будущее китайской микроэлектроники: уверенный взгляд вперед
Политика поэтапного отказа западных компаний от сотрудничества с китайскими производителями оказалась эффективным стимулом для национальной индустрии. Уже в 2025 году доля китайских клиентов ведущих зарубежных производителей, ранее составлявшая больше трети мирового оборота, будет принципиально сокращена. В этих условиях местные компании, обладающие поддержкой государства и ресурсы для внедрения инноваций, уверенно занимают освободившиеся ниши.
Индустрия микроэлектроники в Китае демонстрирует стремительный рост: появляются собственные школы инженерного проектирования, многочисленные производственные кластеры, а также мощная образовательная база. В среднесрочной перспективе такие шаги позволят не только восполнить потребности внутреннего рынка, но и стать одним из глобальных центров передовых исследований и разработок в сфере полупроводников.
Значимость технологического суверенитета и возможности для участников рынка
Строительство полноценной независимой цепочки создания полупроводников в Китае — не просто ответ на внешние вызовы, но и важнейший драйвер для дальнейшего экономического роста. Налаживание серийного производства EUV-литографов позволит предложить на внутреннем и мировом рынках конкурентоспособные решения, удовлетворяющие самым строгим стандартам передовых производств.
Масштабируемость разработанных технологий, ориентация на устойчивость к внешним воздействиям и стратегическая поддержка государства создают прочную базу для формирования нового технологического уклада. Это значит, что уже в ближайшие годы Китай сможет полностью обеспечить себя современными решениями в области чипостроения, предложив миру эффективные и инновационные продукты.
Источник: biz.cnews.ru
